Микроэлектроника.

Собственно тема, про микроэлектронику. Ликбез по ней, последние новости, и т.п.

rilian пишет:

Проблема в том, что я работаю там, где делают микропроцы в России. И нам желательно бы иметь хотя бы 65нм, тогда мы сможем делать процы дальше. И все будут на наших процах жить xD

Микрон что ли?
Для 65 нм, не нужен EUV, достаточно DUV, с фазосдвигающим шаблоном, или иммерсия. Вообще на DUV, можно и 14 нм выжать, но выход годных мал, и нужен огромный рынок. Тут кстати, имеет смысл затачивать тогда фотолитографы скорее не на производительность, а на точность совмещения. Выход годных будет выше.

123hjkl пишет:
Микрон что ли?

Нет, не микрон. Наша контора разводит процы, которые потом отдают печатать на Микрон и раньше на TSMC (НИИСИ, если быть точным).

И с закрытием TSMC наш проект на 28НМ заглох, походу, а под 65 собираются переразводить на 90нм, что нехило производительность просадит.

Я слышал у вас там мини-фаб есть. ))) Жируете.

наш проект на 28НМ

На архитектуре КОМДИВ-64?

Почитал, вы там оказывается и КНИ занимаетесь, и Системы на кристалле по технорме 28 нм мутите...

Кстати, 28 нм вполне могут и появиться раньше второй половины 2026 года.
Китайский SMEE SSA800 может выдать 28 нм.

123hjkl пишет:
На архитектуре КОМДИВ-64?

На микроархитектуре Комдив-64, при этом на архитектуре mips64.

123hjkl пишет:
Системы на кристалле по технорме 28 нм мутите...

Есть и 28нм готовый проект, но хз что с ним будет - процы печатать негде.

А с аналоговыми микросхемами АЦП/ЦАП у нас все печально?
Насколько я в курсе, в мире всего два производителя - Analog Devices и Texas Instruments. Оба в солнечном пендостане и по понятным причинам нам тут всё обламывается.

Инженер пишет:

А с аналоговыми микросхемами АЦП/ЦАП у нас все печально?
Насколько я в курсе, в мире всего два производителя - Analog Devices и Texas Instruments. Оба в солнечном пендостане и по понятным причинам нам тут всё обламывается.

Миландр разрабатывал АЦП и ЦАП. Делает Ангстрем ( который не Т, и у которго техпроцесс 600 нм ).

rilian пишет:

Есть и 28нм готовый проект, но хз что с ним будет - процы печатать негде.

Транзисторы finFet?

123hjkl пишет:
Делает Ангстрем

Я в курсе, что отечественное есть. В военной технике используется. Стоит нереальных денег, которые военные не считают.

Не соглашусь с мнением, что военные не считают денег. Считают и еще как. Поэтому "отечественные решения" ранее использовались только в каких-то избранных изделиях ВПК, а не везде подряд.
Цена проистекает из мелкопартийности и мелкосерийности. Если гражданский сектор было не загнать в отечественные микросхемы, то одни военные своими заказами не сделают продукт массовым, это естественно и нормально.
Сейчас, возможно, что-то поменяется.

gooodvin пишет:
Сейчас, возможно, что-то поменяется.

Поменяется. Но поскольку это очень не быстро, при всём желании партии и правительства залить отрасль баблом, то кое-какие компании к тому времени склеят ласты.

123hjkl пишет:
Транзисторы finFet?

Не в курсе, могу поспрашивать у своих, я программист всё же)

Инженер пишет:

Я в курсе, что отечественное есть. В военной технике используется. Стоит нереальных денег, которые военные не считают.

Ага, корпусируют в керамику, и только в неё.

123hjkl пишет:
Ага, корпусируют в керамику, и только в неё.

Насколько я в курсе, корпуса с 60-х годов в СССР и далее в основном в Йошкар-Оле делали.
Я на этом заводе (ЗПП) практику проходил. В 95-99 годах там можно было кино снимать. Про постядерное будущее. Декорации готовые.
Сейчас чего-то шевелятся. Туда грозятся влить 18 ярдов. Ну... х.з.
Если кадры разбежались - хоть завливайся.
В ридной альма-матерщине уже и специальность ликвидировали, которая кадры для него готовила.
Оптимизировали.

Инженер пишет:

Насколько я в курсе, корпуса с 60-х годов в СССР и далее в основном в Йошкар-Оле делали.
Я на этом заводе (ЗПП) практику проходил. В 95-99 годах там можно было кино снимать. Про постядерное будущее. Декорации готовые.
Сейчас чего-то шевелятся. Туда грозятся влить 18 ярдов. Ну... х.з.
Если кадры разбежались - хоть завливайся.
В ридной альма-матерщине уже и специальность ликвидировали, которая кадры для него готовила.
Оптимизировали.

Я к тому, что в гражданке корпуса пластиковые нужны. Керамика там избыточна. Ну а кадры ныне везде в дефиците. Нам надо из-за границы приглашать, ибо самим требуемое колличество тупо не из кого рекрутировать.

Резиденты особой экономической зоны «Технополис Москва» и ученые Национального исследовательского университета «МИЭТ» проводят исследования для создания установки, которая позволит печатать микросхемы размером от 28 нанометров и ниже, востребованным в современной микроэлектронике.

Об этом сообщил руководитель Департамента инвестиционной и промышленной политики, входящего в Комплекс экономической политики и имущественно-​земельных отношений столицы, Владислав Овчинский.

«Резиденты ОЭЗ Москвы участвуют в проекте по созданию технологии и разработке установки-​литографа – уникального оборудования для производства микросхем. Научные работы по проекту проходят на базе НИУ МИЭТ при участии «Зеленоградского нанотехнологического центра» – резидента столичного технополиса. Производственные мощности кластера микроэлектроники столичной ОЭЗ будут задействованы для изготовления необходимых проекту образцов», ̶ сказал Владислав Овчинский.

Установка сможет использоваться для производства чипов топологических размеров от 28 нанометров и ниже на базе российских синхротронов и плазменных источников излучения. Ученые МИЭТ в кооперации с резидентами ОЭЗ Москвы сегодня изучают возможность реализации технологии.

По словам проректора по научной работе МИЭТ Сергея Гаврилова, если эта работа завершится успешно, за ней последует опытно-​конструкторский проект по созданию литографической установки.

«Резиденты ОЭЗ Москвы вносят значительный вклад в отечественную инноватику и микроэлектронную промышленность. Так, резидент «Зеленоградский нанотехнологический центр» уже вложил в проект более 300 млн руб. Очередной шаг в этом направлении – участие в создании уникального литографа для печати чипов. Эта работа в кооперации с университетом МИЭТ позволит усилить компетенции и являться важным шагом технологического развития для микроэлектроники России», — отметил генеральный директор ОЭЗ «Технополис Москва» Геннадий Дегтев.
тыц

Выглядит это примерно так.

Ну на обсуждение новости на АШ тоже дам ссыль. тыц

Попробуем возродить дохлую тему.

Японская Canon разрабатывает литографическое оборудование нового поколения для выпуска полупроводников, способное конкурировать с продукцией голландской ASML, являющейся практически монополистом на рынке подобных решений. Строительство нового завода в Японии также станет ответом на инвестиции конкурентов в соответствующую сферу в США, Южной Корее и на Тайване.

Ожидается, что объёмы инвестиций составят $345 млн, включая стоимость строительства и установку производственного оборудования. Завод начнёт производство уже весной 2025 года. В результате компания удвоит свои производственные мощности в данной нише. Компания не просто намерена расширить производство, но и делает ставку на новые технологии, благодаря которым можно будет выпускать полупроводники нового поколения по низким ценам. Сегодня она выпускает литографическое оборудование на двух заводах в Японии, которое используется для выпуска чипов, например, для систем управления автомобилями.

Новый завод будет построен на участке площадью 70 тыс. м2 на территории уже существующего производства. Это будет первый новый завод по выпуску литографического оборудования, построенный Canon за 21 год, возведение начнётся в 2023 году. Ожидается, что в 2022 году продажи литографического оборудования год к году вырастут на 29 % до 180 машин — вчетверо больше показателей десятилетней давности. Новый завод позволит удовлетворить растущий спрос.

По данным World Semiconductor Trade Statistics, в прошлом году мировой рынок полупроводников впервые в истории превысил $500 млрд, В индустрии ожидают, что в 2030 году он превысит $1 трлн. Сегодня Canon контролирует 30 % мирового рынка литографического оборудования по объёму, уступая только ASML, на долю которой приходится 60 %. Intel и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) анонсировали планы построить новые собственные заводы в США и других странах. Их примеру решила последовать и Canon.

Компания также разработала технологию следующего поколения, называемую нанопечатной литографией. Это позволяет выпускать самые передовые микросхемы по более низким ценам в сравнении с уже действующим литографическим оборудованием. Процесс упрощён благодаря методике, позволяющей буквально «штамповать» рисунки интегральных схем, что позволяет существенно снизить стоимость производства — в разработке технологии принимали участие японские Kioxia и Dai Nippon Printing.

Сегодня самой незаменимой является технология, использующая EUV-литографию для формирования схем на нанометровом уровне. Единственным источником подобных технологий сегодня является нидерландская ASML. Тем не менее подобное оборудование дорого, стоит около $138 млн за машину и потребляет много энергии. Если нанопечатная литография достигнет стадии практического коммерческого использования, в Canon рассчитывают, что сокращение себестоимости литографии составит до 40 %, а энергопотребления — до 90 % в сравнении с EUV. Это позволит пошатнуть доминирование ASML на рынке.

Что такое нанопечатная литография, она же НИЛ ? 

По сути это горячее тиснение.

Это ультрапрецизионный штамповочный станок, с штампом имеющим наноразмерный рельеф. Сам штамп обычно делают из никеля или кремния на электронном литографе. Ну и сама штамповка по понятным причинам  происходит в вакууме. Таким методом можно делать чипы по любому техпроцессу. 

Метод известен с 90хх годов, но не пошёл в промышленность из-за проблем со штапаиа ( сложности с совмещением, надо часто менять штампы, а делают их на электронных литографах ). Если японцам удалось решить данные проблемы, то это не просто крах почти монополии ASML, но и существенное укорачивание  и кпрощение технологической цепочки микроэлектроники, а также  удешевление основных фондов полупроводникового производства.